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                        1nm可期!ASML研發第二代EUV光刻機

                        作者:蘇亞時間:2019-07-05來源:TechWeb收藏

                        本文經AI新媒體量子位(公眾號 ID: QbitAI)授權轉載,轉載請聯系出處。

                        本文引用地址:http://www.xinfa15808.cn/article/201907/402352.htm

                        半導體制造過程中最復雜也是最難的步驟就是光刻,也因此成為最重要的半導體制造設備。

                        在7nm制程的較量中,臺積電之所以能夠領先,一個很重要的原因就是EUV技術,在半導體制造的工藝中,這部分的成本就能占到33%左右。

                        目前最先進的就是來自這家ASML公司生產的EUV,每臺售價超過1億美元,而且供不應求。

                        ASML的主要客戶為全球一線的晶圓廠,除了英特爾、三星和臺積電這三大巨頭之外,國內的中芯國際也是ASML的客戶。

                        有外媒報道稱,ASML公司目前正積極投資研發新一代EUV光刻機。

                        和往代的相比,新款EUV光刻機最大的變化就是高數值孔徑透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光刻機的微縮分辨率、套準精度兩大光刻機核心指標提升70%,達到業界對幾何式芯片微縮的要求。

                        之前ASML公布的新一代EUV光刻機的量產時間是2024年,不過最新報道稱下一代EUV光刻機是2025年量產,這個時間上臺積電、三星都已經量產3nm工藝了,甚至開始沖擊2納米、1納米。

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